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書籍名稱:《Essential Macle

書籍名稱:《ZEMAX學(xué)習(xí)秘笈-

統(tǒng)一化光學(xué)建模設(shè)計與分析平

《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》
時間:2019-07-01 16:37來源:訊技光電作者: 營銷部點擊:次打印
新書搶先看:《Optical Coating Design with the Essential Macleod基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》
 
作者:美國Angus Macleod 、Christopher Clark  
譯:訊技科技股份有限公司
校:訊技科技股份有限公司
 

 
書籍概況
 
Macleod軟件自帶的用戶手冊功能全面,其介紹涵蓋了軟件的方方面面,能夠使用戶快速的了解和熟悉軟件的基本操作。然而,為了順應(yīng)目前薄膜行業(yè)的需求,急需一本能夠契合軟件設(shè)計和實際加工需要的專業(yè)書籍,以能夠幫助薄膜領(lǐng)域的同行高效的完成相關(guān)工作,因此,我們特別推出了《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》。
《基于Essential Macleod軟件的光學(xué)薄膜設(shè)計技術(shù)》(原著第二版)是世界著名光學(xué)薄膜專家Angus Macleod先生60多年豐富工作經(jīng)驗的總結(jié),結(jié)合當(dāng)前市場占有率極高的光學(xué)薄膜設(shè)計與分析軟件Essential Macleod,其內(nèi)容豐富,實用性強。書中不僅有成熟的光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)、計算公式和分析方法,還有關(guān)于光學(xué)薄膜技術(shù)討論和解決方案以及全面考慮了薄膜的設(shè)計、分析、制造等各方面問題,如第8章中40個經(jīng)典案例分析。本書共設(shè)置21章節(jié),首先,從光學(xué)薄膜的基本理論出發(fā)(第2章),為大家介紹了設(shè)計一個薄膜所必備的基礎(chǔ)知識。其次,在第3至第7章主要介紹了Macleod軟件的相關(guān)操作,以幫助大家在較短的時間快速熟悉軟件操作界面。最后,從第9章至21章開始重點闡述軟件中的反演工程、提取光學(xué)常數(shù)、公差分析、薄膜顏色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模塊如何與實際相結(jié)合,從而使大家將理論知識與實際經(jīng)驗結(jié)合起來,對實際鍍膜提出實用的建議,以減少設(shè)計時間并降低生產(chǎn)成本。
薄膜光學(xué)涵蓋范圍很廣,書中并附設(shè)計光盤和參考文獻,有興趣者可依此深入研究,為精準起見,在不影響理解的情況下,盡最大可能保留原文意思。譯者希望本書能夠?qū)氖卤∧ば袠I(yè)的人員有所幫助,通過學(xué)習(xí)之后能夠較好地完成其所承擔(dān)的光學(xué)任務(wù)。然而由于個人能力之局限,書中錯誤紕漏之處在所難免,本書若有不周之處,尚請讀者不吝賜教。 
 
書籍目錄
 
1 引言
2  光學(xué)薄膜基礎(chǔ)
2.1  一般規(guī)則
2.2  正入射規(guī)則
2.3  斜入射規(guī)則
2.4  精確計算
2.5  相干性
3  Essential Macleod的快速預(yù)覽
4  Essential Macleod的特點
4.1  容量和局限性
4.2  程序在哪?
4.3  數(shù)據(jù)文件
4.4  設(shè)計規(guī)則
4.5  材料數(shù)據(jù)庫和目錄庫
4.5.1  材料數(shù)據(jù)庫及導(dǎo)入材料
4.5.2  材料目錄庫
4.5.3  導(dǎo)出材料數(shù)據(jù)
4.6  常用單位
4.7  插值
4.8  材料數(shù)據(jù)的平滑
4.9 一般文檔編輯規(guī)則
4.10 設(shè)計文檔
4.10.1  公式
4.10.2  更多關(guān)于膜層厚度
4.10.3  沉積密度
4.10.4  性能計算
4.10.5  保存設(shè)計和性能
4.10.6  默認設(shè)計
4.11  圖表
4.11.1  合并曲線圖
4.11.2  自適應(yīng)繪制
        4.11.3  動態(tài)參數(shù)圖          
4.11.4  3D繪圖
4.12導(dǎo)入和導(dǎo)出
4.12.1  剪貼板
4.12.2  不通過剪貼板導(dǎo)入
4.12.3  不通過剪貼板導(dǎo)出
4.13  背景(Context)
4.14  擴展公式 - 生成設(shè)計
4.15  生成Rugate
4.16  參考文獻
5  在Essential Macleod中建立一個Job
5.1  Jobs
5.2  創(chuàng)建一個新的Job
5.3  輸入材料
5.4  設(shè)計數(shù)據(jù)文件夾
5.5  默認設(shè)計
6   細化和合成
6.1  最優(yōu)化導(dǎo)論
6.2  細化
6.3  合成
6.4  目標和評價函數(shù)
6.4.1  目標輸入
6.4.2  目標關(guān)聯(lián)
6.4.3  特殊的評價函數(shù)
6.5  膜層鎖定和關(guān)聯(lián)
6.6  優(yōu)化技術(shù)
6.6.1  單純形
6.6.1.1單純形參數(shù)
6.6.2  Optimac
6.6.2.1  Optimac參數(shù)
6.6.3  模擬退火算法
6.6.3.1退火參數(shù)
6.6.4  共軛梯度
6.6.4.1共軛梯度參數(shù)
6.6.5  擬牛頓法
6.6.5.1  擬牛頓法參數(shù):
6.6.6  針形合成
6.7  我應(yīng)該使用哪種技術(shù)?
6.7.1  細化
6.7.2  合成
6.8  參考文獻
7 導(dǎo)納圖和其他工具
7.1  介紹
7.2  導(dǎo)納變換
7.2.1  四分之一波長規(guī)則
7.2.2  導(dǎo)納軌跡圖
7.3  用Essential Macleod繪制導(dǎo)納軌跡
7.4  全介質(zhì)抗反射膜的應(yīng)用
7.5  對稱周期結(jié)構(gòu)
7.6  參考文獻
8.典型的鍍膜實例
8.1  單層抗反射膜
8.2  1/4-1/4抗反射膜
8.3  1/4-1/2-1/4抗反射膜
8.4  W-膜層
8.5  V-膜層
8.6  高折射基底V-膜層
8.7  高折射率基底b V-膜層
8.8  1/4-1/4高折射率基底
8.9  四層抗反射膜
8.10  Reichert抗反射膜
8.11  可見光和1.06um抗反射膜
8.12  寬波段6層抗反射膜
8.13  寬波段8層抗反射膜
8.14  寬波段25層抗反射膜
8.15  四層2-1 增透膜
8.16  1/4波長堆棧
8.17  陷波濾光器
8.18  Rugate
8.19  消偏振分光片1
8.20  消偏振分光片2
8.21  消偏振立體分光片
8.22  消偏振截止濾光片
8.23  偏振立體分光片1
8.24  偏振立體分光片2
8.25  緩沖層
8.26  紅外截止濾光片
8.27  21層長波通過光片
8.28  49層長波通濾光片
8.29  55層長波通濾光片
8.30  寬帶通濾光片
8.31  誘導(dǎo)透射濾光片
8.32  誘導(dǎo)透射濾光片2
8.33  簡易密集型光波復(fù)用(DWDM)濾光片
8.34  高級密集型光波復(fù)用技術(shù)(DWDM)濾光片
8.35  增益平坦濾光片
8.36  啁啾反射鏡1
8.37  啁啾反射鏡2
8.38  啁啾反射鏡3
8.39  鋁保護膜
8.40  鋁反射增強膜
8.41  參考文獻
9  多層膜
9.1  多層膜基本原理—堆棧
9.2  內(nèi)透過率
9.3  簡單例子
9.4  簡單例子2
9.5  圓錐和帶寬計算
9.6  在Design中加入堆棧進行計算
10  光學(xué)鍍膜色彩
10.1  介紹
10.2  色彩
10.3  主色調(diào)和純度
10.4  色度和濃度
10.5  薄膜的顏色和最優(yōu)化顏色刺激
10.6  Essential Macleod中的色彩計算
10.7  參考文獻
11  薄膜中的短脈沖現(xiàn)象
11.1  短脈沖
11.2  群速度
11.3  群速度色散
11.4  啁啾
11.5  光學(xué)薄膜—相變
11.6  群延時和群延遲色散
11.7  色散
11.8  色散補償
11.9  空間光線移位
11.10 參考文獻
12  公差與誤差
12.1 蒙特卡羅模型
12.2  Essential Macleod中的誤差分析工具
12.2.1  誤差分析工具
12.2.2  靈敏度工具
12.2.2.1  Independent Sensitivity 
12.2.2.2  靈敏度分布
12.2.3 Simulator—一個更高級模型
12.3 參考文獻
13  Runsheet 與Simulator 
13.1 基本原理
13.2 邊帶濾光片設(shè)計
14  光學(xué)常數(shù)提取
14.1  介紹
14.2  介電薄膜
14.3  n和k提取工具
14.4  基底
14.5  金屬的光學(xué)常數(shù)
14.6  不正確的模型
14.7  參考文獻
15  反演工程
15.1  隨機和系統(tǒng)誤差
15.2  系統(tǒng)常見的問題
15.3  單層膜
15.4  多層模
15.5  建議
15.6  反演工程
16  應(yīng)力、張力、溫度和均勻性工具
16.1  溫度引起光學(xué)性能的改變
16.2  應(yīng)力工具
16.3  平均誤差
16.3.1  Taper工具
16.3.2  波像差問題
16.4  參考文獻
17  如何在Function中編寫操作數(shù)
17.1  引言
17.2  操作數(shù)
18  如何在Function中編寫腳本
18.1  簡介
18.2  什么是腳本?
18.3  Function中腳本和操作數(shù)的對比
18.4  基本概念
18.4.1  Classes
18.4.2  Objects
18.4.3  Messages
18.4.4  Properties
18.4.5  Methods
18.4.6  顯式聲明
18.5創(chuàng)建對象
18.5.1  創(chuàng)建對象函數(shù)
18.5.2  使用ThisSession和其他對象
18.5.3  概要
18.6  腳本中的表格
18.6.1  方法1
18.6.2  方法2
18.7  注釋
18.8  Scripts腳本管理器
18.9  更高級的腳本命令
18.10  <Esc>鍵
18.11  優(yōu)化用腳本
18.12  腳本對話框
18.12.1  介紹
18.12.2  消息框-MsgBox
18.12.3  輸入框函數(shù)
18.12.4  自定義對話框
18.12.5  對話框編輯器
18.12.6  對話框的控制
18.12.7  更高級的對話框
18.13  進一步研究
19  vStack
19.1  vStack基本原理
19.2  一個簡單的系統(tǒng)——直角棱鏡
19.3  五棱鏡
19.4  二向分色棱鏡
19.5  偏振泄漏
19.6  波前差—相位
19.7  其他參數(shù)
20  報告生成器
20.1  介紹
20.2  指令
20.3  頁面布局指令
20.4  常見的Plots圖和三維圖
20.5  常見參數(shù)表
20.6  重復(fù)指令
20.7  報告模版
20.8  預(yù)備設(shè)計一個報告模版
21  一個新項目
21.1  創(chuàng)建一個新Job
21.2  默認設(shè)計
21.3  薄膜設(shè)計
21.4  誤差的靈敏度
21.5  顯色性
21.6  電場分布

價格:498元
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